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崇左封釉抛光液销售,服务好,价格优

2021-07-31 01:33:01 615次浏览

价 格:面议

CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是能够实现全局平面化的有效方法。

抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。 抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。

硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。

汽车行驶在各种路面,很容易附着上脏污的东西,刚刚洗完的车开出去不久,车漆上就会又成了灰蒙蒙的一片。而釉表面不粘、不附着的特性,使得漆面即使在恶劣和污染的环境中也能长久保持洁净,而且还可以有效的抵御温度对车漆造成的影响,具有防酸、防碱、防退色、抗氧化、防静电、高保真等功能,封釉可以有效地降低表面的粗糙度,减少漆面和外界的摩擦,从而更好地保护漆面,但封釉本身由于其材质和施工方式的限制无法给漆面提供硬度,很多时候是商家宣传的噱头。

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